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【ピジョン 親子で乳歯ケア タブレットU キシリトール プラスフッ素 ぶどうミックス味の商品詳細】
●歯みがき後に、おやすみ前に、おでかけの時に
●毎日の歯みがき習慣はお子様の将来の歯の健康にとって、とても大切です。
●歯みがきが苦手なお子様の「がんばる気持ち」を応援します。
●キシリトールとフッ素の量はお子さま向けに調整しています。
●お口の中で酸を作りません。
●フッ素は緑茶抽出由来です。
●アレルゲン不使用・シュガーレス
●誤って飲み込んだ場合でも、気管をふさがないよう配慮した形です。
【召し上がり方】
・1回に1粒、1日に3粒を目安にお召し上がりください。
・まだ慣れないうちは、細かく砕くか、小さく割ってお与えください。
【品名・名称】
キシリトール含有食品
【ピジョン 親子で乳歯ケア タブレットU キシリトール プラスフッ素 ぶどうミックス味の原材料】
甘味料(キシリトール)、乳化剤、糊料(CMC)、香料、緑茶抽出物、野菜色素、食物繊維(ポリデキストロース)、マルチトール、粉末油脂
※本製品には、アレルギー物質(27品目)を含む原材料を使用しておりません。
【栄養成分】
(1製品(35g)あたり)
エネルギー・・・117kcaL
たんぱく質・・・0g
脂質・・・2.7g
炭水化物・・・32.2g(糖類・・・0g)
食塩相当量・・・0.05g
キシリトール・・・23.3g
フッ素(緑茶抽出物由来)・・・8.4μg
【保存方法】
高温多湿、直射日光を避け保管、開封後はお早めにお召し上がりください。
【注意事項】
・のどに詰まることを防ぐため、1才半未満のお子様、奥歯が生える前のお子様には絶対に与えないでください。
・お子様が召し上がりになるときは、絶対にそばを離れず、食べ終わるまで目を離さないようご注意ください。
・1度に多量に食べると、体質によりおなかがゆるくなることがあります。
・吸湿しやすいので、開封後はジッパーをしっかり閉めて保存し、なるべくお早めにお召し上がりください。
・乾燥剤が入っております。お子様が誤って口にいれないようご注意ください。
・紫色の斑点が見られることがありますが、原料の一部ですのでご安心ください。
【原産国】
日本
【ブランド】
親子で乳歯ケア
【発売元、製造元、輸入元又は販売元】
ピジョン
本品はメーカー製造中止のため、在庫限りで販売終了となります。
リニューアルに伴い、パッケージ・内容等予告なく変更する場合がございます。予めご了承ください。
(Pigeon ぴじょん +フッ素 葡萄 ブドウ)
ピジョン
103-8480 東京都中央区日本橋久松町4番4号
0120-741-887
広告文責:グループ株式会社
電話:050-5577-5043
[ベビーヘルスケア/ブランド:親子で乳歯ケア/]
親子で乳歯ケア / ピジョン 親子で乳歯ケア タブレットU キシリトール プラスフッ素 ぶどうミックス味 ピジョン 親子で乳歯ケア タブレットU キシリトール プラスフッ素 ぶどうミックス味(60粒)【親子で乳歯ケア】
introduction
科学技術支援商社として、
各分野に適した
ソリューションをご提案
私たちは、最先端の研究開発を行う上で重要になる、
プロセス・システム・環境づくりをご提案させていただき、
わが国最先端分野の技術的発展に深く関わっています。
未来への発展のために、
礎となるソリューションを支援させていただく
「研究開発支援商社」として、
これからも全力をあげサポートして行きたいと考えています。
会社概要
solution business
ソリューション事業
各分野の研究開発に必要な
機器・周辺機器のほか、関連する製品を
一貫してご提案・ご提供可能です。
Bioreactor manufacturer
培養事業部
株式会社MBSの合併に伴い、
すべての事業を引き継ぎ、
培養事業部を発足しました。
培養装置のメーカーであります
同社との合併により、
これまで以上の
質の高い価値提供を行って参ります。
商品紹介
モデル名 |
VSS-450-300 |
RVS-210 |
RSS-210-S |
外観 |
|
|
|
特徴 |
・真空、N2、H2、ギ酸 対応
・フラックス入り/無しのはんだに対応
・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』
・300mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応
・フラックス入り/無しのはんだに対応
・200mm角対応
|
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応
・毎分240k/minの高速昇温
・200mm角対応
|
加熱プレートサイズ |
WxD(mm) |
320×320 |
210×210 |
210×210 |
有効対象物サイズ |
WxDxH(mm) |
300×300×50 |
200×200×50 |
200×200×50 |
最大到達温度 |
450℃ |
400℃ |
400℃ |
加熱方式 |
クロス配列IRヒーター
(下部加熱) |
IRヒーター(下部加熱) |
IRヒーター(下部加熱) |
温度制御方式 |
P.I.D.制御方式 |
プレート上面内温度差 |
設定温度に対して±1%以内 |
設定温度に対して±1%以内 |
(対象物:Φ300mmウエハ時) |
(対象物:Φ200mmウエハ時) |
(対象物:Φ200mmウエハ時) |
最大昇温速度
※対象物の熱容量に因る |
150K/min. |
120K/min |
240K/min |
最大降温速度
※対象物の熱容量に因る |
90K/min(T=450℃>200℃)
60K/min(T=200℃>100℃) |
120K/min(T=400℃>200℃)
— |
120K/min(T=400℃>200℃)
— |
チャンバー真空耐久度 |
0.1 Pa(10-3hPa) |
プロセスガス供給ライン |
マスフローコントローラ×1(最大流量:5nlm) |
コントローラ |
タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700 |
プロファイルプログラム登録数 |
最大:50プログラム |
プログラムステップ数 |
最大:50ステップ |
チャンバー冷却方式 |
ウォータージャケット方式 |
加熱プレート冷却方式 |
水冷/空冷(共用可) |
装置サイズ |
WxDxH(mm) |
550x690x830 |
670x544x320 |
430x295x290 |
装置重量 |
(kg) |
約105kg |
約45kg |
約22kg |
電源仕様 |
三相200V・40A |
三相200V・25A |
三相200V・16A |
ギ酸・水素還元両対応 卓上型真空はんだリフロー装置 装置オプション |
上部IRヒーター
モジュール |
標準 |
○
(電源仕様:三相200V、80A) |
— |
セパレート用石英ガラス板 |
○ |
— |
チャンバー高さ |
○(120mm) |
チャンバー高さ80mm |
チャンバー高さ80mm |
最大到達温度 |
650℃ |
|
最大到達温度500℃ |
蓋付きグラファイト製円筒アダプタ |
— |
— |
グラファイト製
プレート |
標準 |
— |
— |
PyC浸潤 |
— |
— |
SiCコーティング |
— |
— |
ダブルチャンバー |
— |
— |
石英ガラス製
チャンバー |
標準 |
— |
— |
高真空対応 |
— |
— |
内蔵ギ酸還元
モジュール |
内蔵
(標準の窒素ガスMFC共用) |
○ |
内蔵
(標準の窒素ガスMFC別系統) |
○ |
外付け
(標準の窒素ガスMFC別系統) |
○ |
ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター |
○ |
フラックストラップフィルター |
— |
— |
高濃度水素ガス供給システム
(安全対策オプション含む) |
○ |
チャンバー蓋インターロック |
(標準装備) |
○ |
追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ |
○
(合計4系統) |
|
追加熱電対
(対象物温度測定・記録用) |
○
(合計1本) |
○
(合計3本) |
|
湿度測定センサ
(チャンバー内湿度測定・記録用) |
○ |
— |
酸素濃度測定センサ
(チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用) |
○ |
3色パトライト(赤・黄・緑) |
○ |
高真空対応チャンバー10-4Pa(10-6hPa)
及びターボ分子ポンプ |
○ |
|
対象物持ち上げ用リフトピン |
○ |
|
外部機器通信用シリアル通信機能 |
○ |
|
チャンバー蓋開閉用リモート制御機能 |
○ |
|
真空ポンプ
(真空到達圧) |
低真空 |
○
(メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択) |
高真空 |
○
ターボ分子ポンプ(10-4Pa) |
|
冷却機付きチラー |
1.3kW |
○
(5.3kW or 8.7kW) |
○
(1.3kW or 2.7kW) |
○
(1.3kW or 2.7kW) |
ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー |
○
(504x714x412mm、約50kg) |
RSO-200 |
RSS-3X210-S |
RSS-160-S |
RSS-110-S |
|
|
|
|
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 |
155×155×40 |
620×200×50 |
155×155×40 |
105×105×40 |
650℃ |
300℃ |
400℃ |
|
クロス配列IRヒーター
(下部加熱) |
カートリッジヒーター(下部加熱) |